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            AC200衍生機(顯影)

            簡要描述:AC200衍生機(顯影)全新外觀設計,大氣,適配實驗室實驗操作,先進的設計理念,模塊化設計。

            • 所在城市:無錫市
            • 廠商性質:生產廠家
            • 更新日期:2023-08-10
            • 訪  問  量:120

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            AC200衍生機(顯影)介紹:

            新外觀衍生機尺寸:680*550*450mm(三種機型尺寸一致)

            包裝用木箱包裝

            轉速范圍:20-10000rpm

            加速度可調范圍20-50000rpm/s

            單步時長:3000s

            時間分辨率:0.1s

            可編輯100100步程序,更多可擴展


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            AC200衍生機(顯影)大體說明可參照樣本上的寫,配件可以放一些標準載物盤,真空泵的圖片

            自動滴膠:

            適用基片尺寸:小于1cm小碎片及到8寸標準晶圓,非標準基片可定制載物盤

            自動顯影:

            適用基片尺寸:4/6/8寸標準晶圓,非標準基片可定制載物盤

            顯影噴嘴距離基片高度可調,可調范圍10-50mm

            自動去邊:

            適用基片尺寸:4/6/8寸標準晶圓

            去邊精度:去除晶圓邊緣3±0.5mm

            三個基本功能可添加背洗功能(供客戶選擇)


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